検索結果書誌詳細

図書
ログインすると表紙画像を
ご覧になれます
  • 現在、予約しているのは 0 件です。

蔵書情報

この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。

所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0 発注数 0

書誌情報

書名

フォトマスク技術のはなし　　超LSI、液晶、プリント板を支える　　

著者名 田辺 功／[ほか]共著
著者名ヨミ タナベ イサオ
出版者 工業調査会
出版年月 1996.8

この資料に対する操作

カートに入れる を押すと この資料を 予約する候補として予約カートに追加します。

いますぐ予約する を押すと 認証後この資料をすぐに予約します。

  

この資料に対する操作

電子書籍を読むを押すと 電子図書館に移動しこの資料の電子書籍を読むことができます。

登録するリストログインメモ

資料情報

各蔵書資料に関する詳細情報です。

No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 帯出区分 状態 貸出
1 中111868188549.7/ﾌ/8書庫貸出可在庫  ○

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1000000369428
書誌種別 図書
著者名 田辺 功／[ほか]共著
著者名ヨミ タナベ イサオ
出版者 工業調査会
出版年月 1996.8
ページ数 262p
大きさ 21cm
ISBN 4-7693-1149-4
分類記号 549.7
書名 フォトマスク技術のはなし　　超LSI、液晶、プリント板を支える　　
書名ヨミ フォト マスク ギジュツ ノ ハナシ
副書名 超LSI、液晶、プリント板を支える
副書名ヨミ チョウエルエスアイ エキショウ プリントバン オ ササエル
内容紹介 フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。
件名1 リソグラフィー



内容細目

前のページへ
このページの先頭へ トップページへ

本文はここまでです。

ページの終わりです。