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書誌情報

書名

フォトマスク　　電子部品製造の基幹技術　　

著者名 田邉 功／共著
著者名ヨミ タナベ イサオ
出版者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4

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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 帯出区分 状態 貸出
1 中801942475549.8/ﾌ/8一般書貸出可在庫  ○

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書誌詳細

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タイトルコード 1007000081958
書誌種別 図書
著者名 田邉 功／共著
著者名ヨミ タナベ イサオ
著者名 竹花 洋一／共著
著者名ヨミ タケハナ ヨウイチ
著者名 法元 盛久／共著
著者名ヨミ ホウガ モリヒサ
出版者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4
ページ数 323p
大きさ 21cm
ISBN 4-501-32820-7
分類記号 549.7
書名 フォトマスク　　電子部品製造の基幹技術　　
書名ヨミ フォトマスク
副書名 電子部品製造の基幹技術
副書名ヨミ デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
内容紹介 マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
件名1 リソグラフィー



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